退火爐與工業(yè)電爐

真空爐離子氮化爐一般采用可控硅整流調(diào)壓的直流電源，輸出電壓為0—1000V。調(diào)壓方式絕大多數(shù)采用三相半控橋式，其線路簡(jiǎn)單可靠，但要求可控硅的耐壓較高。有的采用兩組三相半控橋式，反串相連，這樣對(duì)可控硅的耐壓就大大降低了，電路的功率因數(shù)也較高，但是線路比較復(fù)雜。
離子氮化爐中，在剛起輝后段時(shí)間內(nèi)出現(xiàn)弧光放電對(duì)于清潔表面是有利的，但是在正常工作時(shí)，則要盡量避免弧光放電，或者盡可能縮短弧光放電的時(shí)間，限制放電電流，以避免工件燒傷或設(shè)備損壞。通常采用以下措施：在供電回路中設(shè)滅弧電路，采用間隙保護(hù)和采用點(diǎn)燃棒。
當(dāng)發(fā)生弧光放電時(shí)，采用滅弧電路將電流中段，即可滅弧。常采用三種電路：電感電容震蕩式，可控硅旁路式和封鎖流橋式電路。所謂間隙保護(hù)，是在距陰極表面小于陰極壓降區(qū)處設(shè)一阻擋物，則這一部分陰極表面的輝光就會(huì)熄滅，由于沒(méi)有輝光放電也就不易產(chǎn)生弧光放電。采用點(diǎn)燃棒滅弧，所謂點(diǎn)燃棒是由陰極引向陽(yáng)極的一根電棒，點(diǎn)燃棒的頂端離陽(yáng)極只有2—3mm。起輝時(shí)，輝光先在點(diǎn)燃棒的端部產(chǎn)生，隨著電流增加，輝光會(huì)擴(kuò)展到整個(gè)陰極表面。點(diǎn)燃棒可以降低輝光放電的點(diǎn)燃電壓，從而避免由于點(diǎn)燃電壓高，一旦點(diǎn)燃輝光放電就轉(zhuǎn)變?yōu)榛」夥烹姷奈ｋU(xiǎn)。

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